EUV光刻光源核心部件研究获新进展，上光所锡液滴发生器达到100kHz工作频率
集微网消息，光光所z工国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的刻光《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》一文。
根据该文介绍，源核锡液滴发生器是心部新进锡液激光等离子体型极紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、研究获小直径且稳定性好的展上作频特性。该论文展示了上海光机所EUV光源团队近来在液滴发生器方面的滴发达研究进展，包括液滴直径、生器重复频率、光光所z工间距、刻光位置和稳定性等。源核
现阶段，心部新进锡液该所团队研制的研究获锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的展上作频锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，滴发达工作时长接近5h。锡液滴在10 s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2 μm和1 μm左右。
不过对比目前商用产品，上述指标仍有较大差距，如2015年ASML产品中采用的液滴靶，可实现液滴直径为27 μm左右，频率50 kHz，液滴间距大于1 mm，最大可到3 mm，液滴30 s短时间内的位置不稳定性~1 μm，连续工作时长一个月以上，液滴直径在20 min内的不稳定性为0.5 μm。
该文表示，未来在锡液滴的可用性性能，如液滴直径、工作时长和长时间的位置稳定性还需进一步提升，相关的探测和分析手段也有待完善，以满足EUV光刻光源对液滴靶的工程需求。
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